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三氟甲烷

在半导体产业中,三氟甲烷用在二氧化硅及氮化硅的等离子蚀刻(plasma etching)中。三氟甲烷也是一种制冷剂,名称为R-23或HFC-23,因为其不含氯,不会造成臭氧层破洞,有时会用来会取代造成臭氧层破洞的三氟氯甲烷(cfc-13)

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详情介绍

中文名称:三氟甲烷

中文别名:氟仿;氟里昂-23;HFC-23灭火剂

英文名称:trifluoromethane

英文别名:Carbon trifluoride; fluoroform; freon 23; Halocarbon 23; R-23;

分子式:CHF3

分子量:70.0138

外观与性状:无色无臭气体。


产品用途

在半导体产业中,三氟甲烷用在二氧化硅及氮化硅的等离子蚀刻(plasma etching)中。三氟甲烷也是一种制冷剂,名称为R-23或HFC-23,因为其不含氯,不会造成臭氧层破洞,有时会用来会取代造成臭氧层破洞的三氟氯甲烷(cfc-13)。

三氟甲烷因为其低毒性、不容易反应及高密度,可用作灭火剂使用。此时常使用杜邦的商标名称FE-13代表三氟甲烷。


注意事项

操作注意事项:密闭操作,全面通风。操作人员必须经过专门培训,严格遵守操作规程。远离易燃、可燃物。防止气体泄漏到工作场所空气中。避免与氧化剂接触。搬运时轻装轻卸,防止钢瓶及附件破损。配备泄漏应急处理设备。

储存注意事项:储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不宜超过30℃。应与氧化剂、易(可)燃物分开存放,切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备。